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[检测百科]分享：双脉冲磁控溅射峰值靶电流密度对TiN薄膜结构与力学性能的影响2025年04月10日 16:39: 自主研发了双脉冲磁控溅射技术,提出在一个脉冲周期内电流呈阶梯式上升的双脉冲电场设计理念,通过对2个脉冲阶段持续时间和峰值靶电流密度的调配,既满足提高镀料粒子动能与离化率以制备高性能薄膜的工艺要求,又达到增加脉冲持续时间以提高薄膜沉积速率的效能目标; 阅读（59）标签：