- [检测百科]分享：不同Si３N４ 相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征2022年12月09日 14:10
- 以αＧSi３N４ 和βＧSi３N４ 粉为原料,采用免烧结工艺在坩埚内壁上分别制备了αＧSi３N４ 涂层、βＧSi３N４ 涂层以及二者质量比为１∶１的复合涂层,然后在这些涂层坩埚中制备得到了多晶硅铸锭,观察了涂层和硅锭的表面形貌,测试了硅锭的表面粗糙度、晶粒大小以及红区长度.结果表明:αＧSi３N４ 涂层表面粗糙不平、起伏不均匀,对应硅锭的表面粗糙度和晶粒尺寸最大,红区最长;βＧSi３N４ 涂层表面较平整且起伏均匀,对应硅锭的表面粗糙度最小,晶粒尺寸较小,红区最短;复合涂层的表面粗糙度介于上述二者之间,对应硅锭的晶粒尺寸最小,红区长度介于二者之间.
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- [检测百科]分享：不同Si３N４ 相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征2021年08月26日 14:50
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